UVM10 -UV光束質(zhì)量分析儀

 metroluxUVM10 -UV光束質(zhì)量分析儀可測量激光強度分布，范圍包括EUV，UV，VIS和NIR，光斑直徑從1µm - 100 mm，可按EN-ISO標準記錄和分析光束。

    具有適合于分析光斑和光束位置以及用于均勻激光光束特點描述的各種軟件工具，可選附件便于協(xié)調(diào)脈沖激光器和單脈沖的測量。

    機械部分采用特殊表面細化、光學部分采用光學增透膜把雜散光減小到zui小的優(yōu)化探測頭。

    VIS/NIR激光光束分析儀 UV激光光束分析儀

    基于激光光束分析儀的“光束檢測”的CCD相機，被優(yōu)化適合于低輸出功率的連續(xù)和脈沖激光器準直光束分析，大部分VIS/NIR波長范圍的激光，可用此系統(tǒng)典型分析，例如Nd:YAG或者半導體激光器通常使用此系統(tǒng)分析。

    光束質(zhì)量分析儀包含Beamlux II軟件、標準攝像頭及附件如中性密度濾光片組合和可快速建立測量的設備，使用這些可選配件，系統(tǒng)也可用于高功率激光束和焦點直徑小于10µm的測量。

產(chǎn)品參數(shù) ：

可用的UV轉(zhuǎn)換窗口片： K2、K6、k7、K8

波長：                            1 - 360 nm

轉(zhuǎn)換器：                          可選

功率：                             <10W

傳感器類型：                 CCD2/3"

軟件：                           Beamlux II高級版

光束類型：                    原始發(fā)散光

光斑大?。?/span>                   <56X44mm2

能量密度：                  <50mJ/cm2

接口：                        IEEE1394

工作距離：                 取決于轉(zhuǎn)換窗口片

可選型號：

UVM10-S ：   探測面積 12 x 9 mm²
UVM10-M：   探測面積23 x 17 mm²
UVM10-L：    探測面積30 x 25 mm²
UVM10-XL：   探測面積 44 x 33 mm²
UVM10-XXL ： 探測面積50 x 40 mm²

不同的型號尺寸有差別，其他大小探測器面積請咨詢我們！

產(chǎn)品應用：光斑大小、發(fā)散角、近場、遠場、光束指向穩(wěn)定性、功率、均勻性

轉(zhuǎn)換窗口片：

 窗扣片的功能為把紫外光和紅外光轉(zhuǎn)換為可見光進入光束質(zhì)量分析儀進行分析，材料轉(zhuǎn)換指標如下：

                                                                              窗口片材料

                                                                           可選尺寸